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專業拋光高光潔度、超光滑光學石英玻璃,微晶玻璃(拋光的好選擇)

發布時間:2020/6/28

專業拋光高光潔度、超光滑光學石英玻璃,微晶玻璃(拋光的好選擇)

變色龍精密玻璃公司玻璃拋光業務包括:光學微晶玻璃拋光,光學石英玻璃拋光,超光滑玻璃拋光,埃米級微晶玻璃拋光,超大尺寸研磨拋光,高光潔度石英玻璃拋光,納米級粗糙度石英玻璃拋光等各規格玻璃拋光。

微晶玻璃是應用于電子、微電子、光電子領域的一類基礎材料,主要用于第二代計算機硬盤,具有光電,熱電,聲光,磁光等多種功能部件,是制作飛機控制,慣導,制導,控制光學元件的基礎材料。目前軍用和高品質光學元件均采用焦油拋光,但由于焦油拋光仍處于人工操作階段,人為因素影響較大,表面加工周期長且粗糙度大,成品率低,易造成邊緣塌陷而采用CeO2磨料磨削,磨料一般是在磨削過程中制成的,存在顆粒不均勻,表面不光滑,這會對拋光質量產生負面影響,導致表面產生劃痕,并且磨料不易清洗,工藝繁瑣等等。

石英玻璃拋光

1.機械拋光 機械拋光是通過切削和材料表面的塑性變形獲得光滑表面的一種拋光方法,一般采用油石條、羊毛輪、砂紙等,主要是手工操作,旋轉體面等特殊零件,可使用轉臺等輔助工具,超精細拋光方法可用于高表面質量要求。

超精密拋光是一種特殊的研磨工具。在磨料溶液中,它被壓制在工件的被加工表面上并高速旋轉。采用這種技術可以獲得Ra0.008μm的表面粗糙度,是各種拋光方法中最高的。

2.化學拋光 是指在化學介質中使材料表面的微凸出部分比凹面部分溶解更好,從而獲得光滑的表面,該方法的主要優點是不需要復雜的設備,可以同時拋光工件的復雜形狀,可以同時拋光大量工件,效率高,化學拋光的核心問題是拋光液的制備,化學拋光獲得的表面粗糙度一般為10μm。

3.電解拋光 基本原理與化學拋光相同,即通過選擇性表面凸出使溶解物表面光滑,與化學拋光相比,可以消除陰極反應的影響,效果更好。

4.流體拋光 流體拋光是依高速流動的液體及其攜帶的磨粒沖刷工件表面達到拋光的目的。流體動力研磨是由液壓驅動,使攜帶磨粒的液體介質高速往復流過工件表面。介質主要采用在較低壓力下流過性好的特殊化合物并摻上磨料制成,磨料可采用碳化硅粉末。

5.超聲拋光 將工件置于磨粒懸浮體中,并將其置于超聲波波場中,依靠超聲波的振蕩作用,使研磨和拋光作用于工件表面。超聲加工具有較小的宏觀力,不會引起工件變形,但制造和安裝工具困難,超聲波加工可以與化學或電化學方法相結合。

在溶液腐蝕和電解的基礎上,采用超聲波振動攪拌液將溶解物從工件表面分離出來,表面附近的腐蝕或電解質均勻,超聲波在液體中的空化也能抑制腐蝕過程,有利于表面光亮。

6.磁性研磨拋光 是利用磁性磨料在磁場作用下形成磨粒,并對工件進行研磨和加工,該方法具有加工效率高、質量好、加工條件易于控制、工作條件良好等優點,在合適的磨料下,表面粗糙度可達Ra0.1μm。

微晶玻璃拋光中存在的以上問題已經成為微晶玻璃得到廣泛推廣應用的障礙,為提高拋光速率,美國一些公司如Cabot、Rodel等公司采用大粒徑磨料(130nm左右)提高拋光過程中的機械作用,進而提高拋光速率,但是這種方法也同時產生了表面劃傷、殘余顆粒難于清洗、拋光漿料流動性差、易沉淀等問題。

為了克服現有微晶玻璃用CMP(化學機械拋光)拋光液在拋光工藝中存在的表面劃傷、塌邊和清洗的技術問題,而提供一種化學作用強,易于清洗,有效解決劃傷問題,拋光速率高,流動性好,無沉淀產生的用于微晶玻璃研磨拋光的拋光液。

在CMP條件,將微晶玻璃的主體二氧化硅(酸性氧化物)在高PH值下快速轉化為可溶性硅酸鹽,用復合堿形成高PH值,采用均一性好易清洗的硅溶膠做磨料,有機堿和活性劑使二氧化硅溶膠膠核形成一個穩定的膜,使PH在大于12.5仍很穩定,不會發生溶解。

變色龍精密玻璃公司有日本Speedfam的單面和雙面研拋機、環拋機、法國DMG超聲波加工中心、超大尺寸加工中心(2米*1.2米)、超大尺寸平面磨床(1.6米*0.6米)、臺灣精一CNC切割機、薄片平板清洗機、超聲波槽式清洗機、平面干涉儀、二次元檢測機等一大批精密加工及檢測設備,為做好優質產品打下堅實基礎!公司絕大多數生產員工和技術員,十幾年來一直從事精密行業,從未離開。穩定專業的團隊,不懈努力追求的精神,保證了我們產品的過人質量,鑄造了我們的信譽!

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